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実験室1200℃デュアルゾーンスライド式pecvdチューブ炉(オプションのチューブ径)
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50、80、および125 mm odチューブ炉用のrfジェネレータ
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1200℃デュアルゾーンスライディングpecvd炉
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三温度帯スライディングpecvdチューブ炉
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rfの発電機、ガスの組合せ及びポンプ装置が付いている1200°Cの縦のpecvdの炉
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三温度帯150 mm od pecvd炉
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抵抗線カンタルa1(スウェーデン)付き1200℃真空ホットプレス炉
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1100°C 11x9x9 "st。st。内部制御雰囲気炉
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ミニシングル温度帯スライディングpecvdチューブ炉
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炭化ケイ素発熱体用1700℃真空チャンバー雰囲気炉
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1400℃最大制御雰囲気マッフル炉(PCインターフェース付)
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1200cシングルヒーティングゾーンロータリーペーバー管炉(60 mm od)
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炭化ケイ素発熱体用1400℃真空チャンバー雰囲気炉
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1700°C最大制御雰囲気マッフル炉(PCインターフェース付き)
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1200 c実験室2 - 5 "シングルゾーン真空ロータリーcvdチューブ炉
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1200°Cデュアルゾーンcvdチューブ炉
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二重水サンドイッチ構造の真空カーボンチューブ炉の使用
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ラボの高温1400c 1600c 1700c昇降炉エレベータ雰囲気炉
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1700°C最大制御雰囲気マッフル炉、PCインターフェース付き
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1700°C最大制御雰囲気マッフル炉、PCインターフェース付き
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4チャンネルmfcガソリンスタンド付き1200c 3ゾーンcvdチューブ炉
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1200℃デュアルゾーンスライディングcvd炉
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真空溶融炉
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二方向モリブデンワイヤー真空ホットプレス炉
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ガス混合およびポンプシステムが付いている1700°c cvdの管の炉
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ガスミキシング&ポンピングシステム付き1400℃cvdチューブ炉
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1200°C pe / cvdファーネス、rfジェネレーター、ガスミックス、ポンプシステム
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1100℃最高制御雰囲気マッフル炉
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vlf真空懸濁溶融炉
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抵抗線をもつ1700℃真空熱プレス炉canthal a1(スウェーデン)
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50プログラム温度制御システムを備えたvimプロセス温度誘導溶解炉
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高温雰囲気焼結で使用される真空モリブデン炉
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真空ポンプtmax-2xz-2b
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15kw自動制御システム
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hpcvd用内部移動機構付き1200℃チューブ炉
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急速加熱および冷却を可能にした最大1000℃のスライド可能なrtp(4 'od)管状炉
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内径4 "の石英管とデジタル真空計を備えた1100ºculの標準rtp炉
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ターボ分子真空ステーションと完全付属品を備えた1100c rtp管状炉システム
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DVDおよびrtpのための1200°c最高の磁石駆動のスライディングチューブ炉
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速い加熱/冷却のためのフランジが付いている1200°C最高のスライド式管状炉
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ラボ1200cスライディングチューブファーネス(オプションのチューブ径)、フランジ付き
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真空フランジとアルミナチューブを備えた3ゾーン1600℃チューブ炉
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真空フランジとアルミナチューブを備えたダブルゾーン1600℃チューブ炉
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カンタール(スウェーデン)発熱体付き3ゾーン1200℃チューブ炉
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ダブルゾーン1200°C管状炉、カンタル(スウェーデン)発熱体付き
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ワンゾーン1800℃最大80mm外径管炉、カンタル®エレメント付
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アルミナチューブとシーリングフランジを備えた1ゾーン1700℃チューブ炉
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アルミナチューブとシールフランジを備えた1ゾーン1400°Cチューブ炉
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1ゾーン1200°C垂直管炉、カンタル(スウェーデン)エレメント付き
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ワンゾーン1200°C 60〜250 mm odスプリットチューブ炉w /kanthal®(スウェーデン)エレメント
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石英管が付いている1地帯1200°C 50mm odの割れた管の炉
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1600c 8 - 36 l電気マッフル炉、プログラマブルコントローラおよび通気口
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1400c 3.6 - 36 l電気マッフル炉、プログラマブルコントローラおよび通気口
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1100c 7.2〜36 l小型マッフル炉、プログラマブルコントローラおよび通気口
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1600 C 3.6 - 36 L雰囲気ボックス炉
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1300c 3.6 - 36 l ul標準大気ボックス炉
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1700 C 3.6 - 36 L水素雰囲気ボックス炉
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高温不活性ガスを含む1700c ul標準3.6 - 36 l雰囲気ボックス炉
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ベンチトップ不活性ガス真空付き1400c 12 - 36 l雰囲気ボックス炉
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実験室設備用1750℃マッフル炉熱処理