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実験室1200℃デュアルゾーンスライド式pecvdチューブ炉(オプションのチューブ径)

  • Model Number:

    TMAX-DSP-1200PECVD
  • Delivery Time:

    12 days
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DESCRIPTION

実験室1200℃デュアルゾーン 蓋を閉める pecvdチューブ炉(オプションのチューブ径)


tmax-dsp-1200pecvd です デュアルゾーンスライド式pe-cvdチューブ炉 システムは、チューブサイズと一体型スライドレールを備えた高周波プラズマ源、ガス混合タンクを備えた精密質量流量計、および高品質のオイルレス真空ポンプで構成されています。 このようなペデックス炉は、ナノワイヤまたはグラフェンを成長させるための新しいツールであり、次のような利点があります。
1.従来のcvdに比べて低温処理。

高加熱&。スライディング炉を用いた冷却速度

3.最大1200ºc。作業温度。

カーボンなどの広範囲の材料堆積を提供する。ナノワイヤー(またはチューブ)と単層の書記素。

仕様:

モデル

dsp-1200 -pecvd-i

dsp-1200 -pecvd-ii

dsp-1200 - スペック - iii

dsp-1200 - スペック - iv

パワー

3キロワット

3キロワット

4キロワット

4キロワット

チューブサイズ

直径60(外径)×1800ミリメートル

直径80(od)×1800mm

直径100(od)×1800mm

dia120(外径)×1800mm

製品寸法(mm)

1800×410×610

1800×410×610

1800×460×660

1800×460×660

特徴

1。 2つのプログラム可能な精密温度。 30セグメントのコントローラ。

2。 2つの別々に制御された加熱帯

    • 各暖房区域のための200mmの長さ
    • 加熱長さ400mm
    • 両方のゾーンが同じ温度で加熱されている場合、250 mmの一定中心温度加熱領域

炉構造

1。 スライドレール付き分割管炉

2。 連続的な暖房のための最高1150ºc

3。 30セグメントのマルチプログラマブル高精度デジタル温度コントローラ。

4。 入力電力:最大208 - 240 v AC入力、単相。 4キロワット

プラズマRF電源

1。 出力電力:±1%の安定性で調整可能な5 - 500w。

2。 無線周波数:13.56MHz±0.005%安定性。

3。 反射力:最大10ワット

4。 マッチング:自動

5。 高周波出力ポート:50Ω、n型、メス

6。 騒音:<30db。

7。 冷却:空冷。

8。 電源:208-240vac、単相、50 / 60hz

さび止め圧力計

1。 3.8×10 -5 1125トルの測定範囲

2。 さび止め、ガスタイプ独立

3。 信頼性のある大気圧検出のための大気中での高精度と再現性

4。 高速大気検知により待機時間を削減し、プロセスサイクルを短縮

5。 交換が簡単なプラグ& A遊びセンサー要素

真空ポンプステーションとバルブ

1。 ファイファーの高速(120l / min)オイルレスドライ真空ポンプ、10e-3トールの制限が頑丈な移動式カートの中に設置されています

2。 kf25アダプターおよびステンレス鋼管は顧客のプラグアンドプレイのための球弁が付いているポンプそして管のフランジ間で接続されます

3。 処理管内で10e-2トルの真空を達成

質量流量計ガス混合ステーション

それは管状炉が上部に置くことができる頑丈な移動式カートに設置されています。液晶タッチスクリーンは、独立した各チャンネルのガス流量を簡単に制御できるように統合されています。

1。 働く温度:5〜45ºc

2。 最大圧力:3×10 6 pa

3。 精度:±1.5%fs

4。 ライナー:±(0.5〜1.5)%f。

5。 複製精度:±0.2%f。

6。 制御範囲:5,10,20,30,50,100,200,300,500sccmまたは1,2,3,5,10slm。

暖房&冷却速度

    • RS485ポートとソフトウェアがインストールされており、PCによるリモートコントロール温度プロファイルを可能にします。
    • 最大加熱速度を達成するために、使用者は炉を所望の温度に予熱し、次いで炉を管のサンプルゾーンにスライドさせなければならない。
    • 最大を達成するために。冷却速度、加熱炉をホットゾーンからコールドゾーンに移動

昇温速度:

15℃/秒(室温〜150℃)。

10℃/秒(150℃〜250℃)。

7℃/秒(250℃〜350℃)。

4°C /秒(350°C - 500°C)。

3℃/秒(350℃ - 550℃)。

2℃/秒(550℃〜650℃)。
1℃/秒(650℃〜800℃)。
0.5°C /秒(800°C - 1000°C)。

冷却速度:

15°C /秒(1000 - 950°C)。

10℃/秒(950℃〜900℃)。

7°C /秒(900°C - 850°C)。

4℃/秒(850℃〜750℃)。

2℃/秒(750℃〜600℃)。
1.5℃/秒(600℃ - 500℃)。
1℃/秒(500℃〜400℃)。
0.5℃/秒(400℃ - 300℃)。

保証

生涯サポート付きの2年間の限定保証。

アプリケーションノート

石英管を有する管炉は真空下および低圧下で使用するために設計されている。 0.12 mpa(絶対圧)。
注意:安全な操作のために2段階の圧力調整器をガスボンベに取り付けて圧力を3 psi以下に制限する必要があります。
ガスの流速は<に制限されるべきである。チューブへの熱衝撃を減らすために200 sccm(または200 ml / min)。
すべての石英管炉の真空限界の定義:*真空圧は1000℃までで安全に使用できます。
4 "より大きいチューブサイズでpecvdシステムを操作するには、プラズマ発生器が作動し始めた後、常にプラズマ源から1メートル以上の距離を保ってください。

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